我国光伏电池制造设备扩散炉生产企业推荐

      1、中电四十八所：中电四十八所事业二部承担着扩散炉等其他太阳能光伏设备的生产，2008年，成功研制出了新型闭管扩散炉——全封闭推舟软着陆扩散炉，2008年销售数百台之多，截至目前市场占有率在80%左右。包括其他光伏设备在内，2008年销售收入达10.15亿元，新签单5亿多元。另外，2008年相继为江西佳辉、神州光电等单位数十条生产线提供了除丝印机之外的整线装备。今年一季度，中电四十八所销售额达到收入4.1875亿元，比去年同期增长70%以上，真正实现了在金融危机影响下弯道不减速。四十八所新型扩散炉，单管产能高达400片，在产能提高33%的同时，能源消耗降低50%以上，废气排放降低到原来开管扩散的1/10，能耗降低20%左右，平均单位扩散成本降低20%以上。成功突破了炉门自动密封、尾进尾出送气、废气自动收集、三维送片机构调整等多项关键技术。达到国际先进水平的大生产用新型太阳能电池生产专用扩散设备，价格却只有进口同类设备的1/3。
　　2、北京七星华创:北京七星华创电子股份有限公司（简称“七星电子”）传承五十多年电子装备及元器件的生产制造经验，于2001年9月成立。七星华创于2007年研制出新型扩散炉，具有四套独立的工艺炉管，关键件全部采用进口件，采用进口智能控制器，可输出四个开关量，对炉温、阀门动作进行自动控制，并管理全部工艺时序，可编辑存贮十条工艺曲线实现为实现闭管扩散工艺，所以必须进行炉口密封，在这方面，七星华创经过无数次的试验，包括数次失败的考验，最终解决了这个棘手的难题：即在没有任何水冷条件下，在工艺温度高达900℃时，采用普通氟橡胶密封圈能够使工艺管密封，并能够长期工作。
　　3、株洲众欣科技：株洲众欣科技专注于磁流体领域，公司创办人罗喜梅女士是国内第一个把磁流体技术进行产业化生产并运用到真空领域的研发型企业家。2007年，众欣科技通过和国内的大专院校的多名专家学者细致交流，然后进行了大量的市场实际调查，众欣科技认为扩散在电池片当中，起到决定性的作用。从提高转换率以及降低生产成本出发，在现有市场上使用的扩散炉技术方面进行了革新，成功研发出新型“气旋动态”扩散炉，截至目前已成功销售3台卧式“气旋”扩散炉。对于“动态”扩散的定义，众欣科技是这样解释的，这是一个相对的概念，主要是针对硅片而言，现在市场上的硅片在扩散的过程当中都是静止不动的，而众欣的动态扩散，就是硅片在整个扩散过程中是一个运动的状态。由于硅片主动地寻找扩散，而不是象原来的被动扩散，所以这个动态扩散的均匀性在远离上面确实可行，该扩散炉最大的特点体现在扩散的效果上：保持方块电阻片内均匀性在3欧姆之内，源的使用量减少使用量三分之一。今年七月，众欣科技将为湘潭一企业提供六管动态扩散炉，即25MW生产线。同时，根据市场的需要，众欣科技也可以提供动态扩散改造服务，为电池片生产厂家节约大量的生产成本和运行费用。
　　4、青岛赛瑞达：青岛赛瑞达设备制造有限公司由北京昊海立德科技有限公司注资的高新技术企业，是集开发、生产、销售为一体的专业厂家。具有自主研制、设计和开发半导体专用工艺设备、包装机械、智能化仪表等产品的能力，同时可根据用户的不同需求进行设计和开发，并且具备改造、装备国外二手设备的能力。该公司扩散炉为闭管磷扩散，带有工艺废气冷却定向回收装置，偏磷酸、CL2分开收集处理，工艺废气集中收集从尾部定向排出，各种工艺气体可分开送入石英管内，工艺气体(三氯氧磷)可采用喷淋式方式引入到石英管内，采用悬臂式推拉舟送取电池片，另采用侧面布局的悬臂推拉结构，可有效的防止偏磷酸下滴，造成推拉机构受腐蚀，影响推拉机构的精确性。
等离子刻蚀机——干法腐蚀设备全部国产为主，少量湿法腐蚀设备需要进口
　　由于在扩散过程中，即使采用背靠背扩散，硅片的所有表面包括边缘都将不可避免地扩散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面，而造成短路。因此，必须对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀，以去除电池边缘的PN结。通常采用等离子刻蚀技术完成这一工艺，等离子刻蚀是在低压状态下，反应气体CF4的母体分子在射频功率的激发下，产生电离并形成等离子体。等离子体是由带电的电子和离子组成，反应腔体中的气体在电子的撞击下，除了转变成离子外，还能吸收能量并形成大量的活性基团。活性反应基团由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面，在那里与被刻蚀材料表面发生化学反应，并形成挥发性的反应生成物脱离被刻蚀物质表面，被真空系统抽出腔体。在等离子体刻蚀机使用过程中，等离子体不能一直保持在某一稳定状态，有许多因素会对刻蚀机系统产生扰动，如刻蚀机的定期维护（PM）、反应腔室内壁聚合物的沉积、设备部件的老化（传感器及各种其他容易磨损的部件），以及未经测量的进入反应腔室的晶片状态的差异等。在不同的时间尺度范围内，刻蚀机产生漂移的原因是不同的，因而需要采用相应的控制类型加以控制。PM与PM之间，刻蚀机要经历定期的清洗、部件的更换和维修等，这些都能对刻蚀工艺产生影响。刻蚀机定期维护的目的是让反应腔室每次都能恢复到同样的理想状态，而这通常是很难达到的。因而会在前一个刻蚀机定期维护快结束之时到下一次刻蚀机定期维护开始后的一段时间发生工艺状态的不连续。在一个刻蚀机定期维护周期之内，刻蚀机状态的改变主要是由于刻蚀产生的残余聚合物在反应腔室内的沉积，以及易损件及可更换部件的磨损所引起的。
　　干法刻蚀（ICP）是目前主流的刻蚀设备工艺，它采用射频辉光放电将参与反应的化学气体电离形成等离子体，通过对刻蚀参数精确的控制和测量，把光刻形成的电路图转移到硅片上形成三维结构。其间融合了等离子体、射频、超高真空、自动化控制等多种尖端技术，是电池片制造过程中至关重要的一环。综观国内刻蚀设备生产企业，具有以下特点：采用片架旋转密封技术，提高刻蚀的均匀性；硅片放置自动压紧技术，减少了钻蚀风险；ICP技术的形成及引入，提高了设备的各种效率；特别是大容量反应室的设计，大大提高了电池片的处理能力。
      信息整理：拓普仪器仪表网    信息来源：www.topdq.com